第一零二零章 金慧芳 (第2/5页)
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想法是好的，但研究新一代光刻机的难度巨大，随着亚洲金融危机降临，全球半导体产业陷入低迷，新一代光刻机的研制陷入停滞状态。
直到二零零七年，后起之秀asml采用台积电林工程师的技术方向，率先研制成功arfi准分子激光器和浸没式光刻系统，突破了波长193nm的世界级光学难题，直接越过157nm波长的天堑，降至132nm波长，制造的新一代光刻机突破了65nm制程工艺，实现了45nm制程工艺，超越nikon高端光刻机，从nikon的手里抢到inter、ibm、amd、hp、三星和台积电等所需高端光刻机的订单。
nikon从此开始走下坡路，随着euv光刻机的问世，asml垄断了全球高端光刻机市场。
孙健私下与邓国辉和钱富强交流，干性光刻不能突破193nm的波长，能否采用湿性光刻？在透镜和晶圆之间加入去离子水，改变折光度试试？湿性光刻需要重新设计特殊的透镜……
重生者虽然只知道浸没式光刻机的皮毛，但提前十多年指引光刻机行业发展的正确方向，有磁悬浮式双工作台系统问世的先例，邓国辉和钱富强肯定不会怀疑方向性问题，有资金保障，研制成功就只剩下时间问题。
到时，bsec率先研制成功arfi准分子激光器和浸没式光学系统，就能在世界光刻机行业有话语权，实现弯道超车。
gca步入正轨，发展前景看好，要钱有钱，高薪聘请，高端人才蜂拥而至，不需要重生者操心，指引方向就够了。
“孙健，你去忙吧！”
刘悦也为孙健高兴，有近800名员工的bsec如今还处于巨亏状态，花钱如流水，要不是去年淘宝控股公司又增资3亿元，bsec早就揭不开锅了，作为总部人事部部长杨昌霞的接班人，每年跟随孙健、李涛和杨昌霞等到分公司视察和指导工作，熟悉分公司的高级管理层和基本经营状况。
