第一零一九章 又近了一步 (第3/4页)
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九日下午，孙健带着家人正在游览毗邻老城皇庙的豫园，突然接到邓建国的报喜电话，非常高兴，bsec离研制成功6英寸晶圆和1um制程工艺的光刻机又近了一步。
去年八月，bsec拿到了gca拥有的arf准分子激光器和800nm制程工艺的专利技术，院长兼光刻机光源研究所所长邓国辉的团队，一共76人，聚集了国内光刻机光源系统最强队伍，光刻机光源研究所的实验设备和材料也是世界最新的，通过拆卸gca牌arf准分子激光器，同专利技术和制造图纸相互印证，经过三个月的研究和实践，团队消化吸收了arf准分子激光器的专利技术，今年六月，光刻机光源公司造出了国内第一台arf准分子激光器，本土化率近七成，达到了gca牌arf准分子激光器的产品质量标准。
arf准分子激光器的制造成功，对bsec也是一次技术实力和制造能力的检阅。
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如今，邓国辉院长和钱富强助理带领光刻机光源研究所，正在研发arfi准分子激光器，重生者寄希望五年左右实行弯道超车。
bsec还没有研发成功6英寸晶圆和1um制程工艺的光刻机，而nikon和gca已经先后研发成功8英寸晶圆和350nm制程工艺的光刻机，正在研发8英寸晶圆和250nm制程工艺，对方淘汰的专利技术还是bsec正在研发的，技术实力相差太大，邓院士等人生出一股无力感。
不是重生者指引方向，bsec研制成功全球唯一的磁悬浮式双工作台系统，在全球光刻机行业说话的资格都没有。
bsec如今使用的arf准分子激光器专利技术属于gca，按照双方签订的专利技术转让协定，即使bsec研制成功arfi准分子激光器，专利技术也属于gca，但浸没式光刻系统专利技术属于bsec。
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