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按照西方人的办事风格，没有18个月是拿不到的。
bsec又在国内专利局和世界专利局分别提交了适合5英寸晶圆和1um制程工艺、6英寸晶圆和1um制程工艺、6英寸和800nm制程、8英寸和500nm制程工艺、8英寸和350nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统公司发明专利的申请。
前三项是bsec研发成功的公司发明专利技术，后二项是gca研发成功的公司发明专利技术。
按照双方签订的专利技术转让协定，gca只有适合8英寸和500nm制程工艺、8英寸和350nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统专利技术使用权，没有专利技术转让权。
在arfi准分子激光器研发成功之前，bsec光刻机工作台研究所继续研发适合8英寸和500nm制程工艺、8英寸和350nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统，与gca研发成功的双工作台系统进行对比，取长补短，为研发适应浸没式光刻系统的磁悬浮式双工作台系统储备技术。
根据九二年修订的专利法，国内的发明专利保护期限变成了20年，实用新型专利权和外观设计专利权的期限为10年，均自申请之日起计算。
只要重新申请的新发明专利比前一个发明专利更先进，发明专利的保护期限可以一直延长下去，形成事实上的技术垄断，就像windos系统！
“艾德里安总经理，申请明天的股票停牌，邀请sematech专家组对gca3500b进行技术认证，拿到认证鉴定后，申请公司发明专利，邀请ii、amd、hp、三星和台积电等半导体制造企业参观gca3500b光刻机样机。”
从余建国的口里知道，gca今天上午的股票小幅下跌，特大利好消息没有泄密！
